De Haas-van Alphen effect in CeRh2Si2 under pressure

S. Araki, M. Nakashima, H. Nakawaki, R. Settai, H. Harima, Y. Onuki

研究成果査読

抄録

We observed de Haas-van Alphen (dHvA) oscillations in CeRh2Si2 at 1.3 GPa, higher than the quantum critical pressure pc≃1.0 GPa. Three observed dHvA branches correspond to the result of the 4f-itinerant model. Their cyclotron masses are large, being 24m0, 29m0 and 31m0, about 4 times larger than the corresponding band masses.

本文言語English
ページ(範囲)435-436
ページ数2
ジャーナルPhysica B: Condensed Matter
312-313
DOI
出版ステータスPublished - 3月 2002
外部発表はい
イベントInternational Conference on Strongly Correlated Electrons - Ann Arbor, MI
継続期間: 8月 6 20028月 6 2002

ASJC Scopus subject areas

  • 電子材料、光学材料、および磁性材料
  • 凝縮系物理学
  • 電子工学および電気工学

フィンガープリント

「De Haas-van Alphen effect in CeRh2Si2 under pressure」の研究トピックを掘り下げます。これらがまとまってユニークなフィンガープリントを構成します。

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