| Original language | Japanese |
|---|---|
| Pages (from-to) | 721-722 |
| Number of pages | 2 |
| Journal | 表面技術 |
| Volume | Vol.54 |
| Issue number | issue 10 |
| Publication status | Published - 2003 |
Cite this
Hayashi, H. (2003). 過剰のマグネシウムイオン存在下での希薄硫酸ニッケル溶液からのニッケルの電析. 表面技術, Vol.54(issue 10), 721-722.