| Original language | Japanese |
|---|---|
| Pages (from-to) | 721-722 |
| Number of pages | 2 |
| Journal | 表面技術 |
| Volume | Vol.54 |
| Issue number | issue 10 |
| Publication status | Published - 2003 |
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Hayashi, H. (2003). 過剰のマグネシウムイオン存在下での希薄硫酸ニッケル溶液からのニッケルの電析. 表面技術, Vol.54(issue 10), 721-722.
過剰のマグネシウムイオン存在下での希薄硫酸ニッケル溶液からのニッケルの電析. / Hayashi, Hidetaka.
In: 表面技術, Vol. Vol.54, No. issue 10, 2003, p. 721-722.Research output: Contribution to journal › Article
Hayashi, H 2003, '過剰のマグネシウムイオン存在下での希薄硫酸ニッケル溶液からのニッケルの電析', 表面技術, vol. Vol.54, no. issue 10, pp. 721-722.
Hayashi H. 過剰のマグネシウムイオン存在下での希薄硫酸ニッケル溶液からのニッケルの電析. 表面技術. 2003;Vol.54(issue 10):721-722.
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TY - JOUR
T1 - 過剰のマグネシウムイオン存在下での希薄硫酸ニッケル溶液からのニッケルの電析
AU - Hayashi, Hidetaka
PY - 2003
Y1 - 2003
M3 - Article
VL - Vol.54
SP - 721
EP - 722
JO - 表面技術
JF - 表面技術
IS - issue 10
ER -