水中の疎水化シリカ表面間に働く短距離性疎水性引力に及ぼす表面の疎水性の影響

Naoyuki Ishida

Research output: Contribution to journal › Article

Original languageJapanese
Pages (from-to)343-348
Number of pages6
Journal粉体工学会誌
Volume51
Issue number5
Publication statusPublished - 2014

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水中の疎水化シリカ表面間に働く短距離性疎水性引力に及ぼす表面の疎水性の影響. / Ishida, Naoyuki.

In: 粉体工学会誌, Vol. 51, No. 5, 2014, p. 343-348.

Research output: Contribution to journal › Article

Ishida, N 2014, '水中の疎水化シリカ表面間に働く短距離性疎水性引力に及ぼす表面の疎水性の影響', 粉体工学会誌, vol. 51, no. 5, pp. 343-348.
Ishida N. 水中の疎水化シリカ表面間に働く短距離性疎水性引力に及ぼす表面の疎水性の影響. 粉体工学会誌. 2014;51(5):343-348.
Ishida, Naoyuki. / 水中の疎水化シリカ表面間に働く短距離性疎水性引力に及ぼす表面の疎水性の影響. In: 粉体工学会誌. 2014 ; Vol. 51, No. 5. pp. 343-348.
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TY - JOUR

T1 - 水中の疎水化シリカ表面間に働く短距離性疎水性引力に及ぼす表面の疎水性の影響

AU - Ishida, Naoyuki

PY - 2014

Y1 - 2014

M3 - Article

VL - 51

SP - 343

EP - 348

JO - 粉体工学会誌

JF - 粉体工学会誌

IS - 5

ER -